全自動光刻機  

全自動光刻機
MIDAS SYSTEM公司開發并生產用于半導體、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業領域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國*家研發并商業化光罩對準曝光機的企業，始終致力于不斷完善、增強技術型企業的核心競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業化的設計團隊，以客戶需要為己任，生產、供應滿足國內外企業、科研院所不斷增長的應用需求，并且提供半導體工藝相關的設備需要。

MDA-12SA型曝光機是一款MIDAS公司新開發的產品，代表了下一代全區域光刻系統。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應用，同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產能力和容易操控。



項目 參數
光源能量 紫外曝光光源光強2000～5000W，輸出能量可控
光束范圍 14.25″× 14.25″
均勻光束范圍 13.25″× 13.25″
光束均勻性 ＜3%～5%
365nm輸出光束強度 5KW 25～60mW/cm2，2 KW 15～30mW/cm2
400nm輸出光束強度 5KW 50～100mW/cm2，2 KW30～50mW/cm2
可調節曝光時間 0.1～999.9s
范圍觀察 顯微鏡/CCD相機安裝（480～1000倍可變放大,1600倍可選）
電動觀察范圍移動 顯微鏡x、y、z電動操作（手柄控制）
電動樣品臺 樣品臺x、y、z、Theta電動操作
卡盤移動 大范圍。靜態對準工具模塊進行x、y、z、Theta移動
卡盤水平 楔形誤差補償（楔形位置自動感應，壓力傳感器，警報）
基片尺寸 直至14″× 14″
掩模板規格 可替換的直至15″× 15″
真空卡盤移動 x、y：10mm；Theta：4×
Z向移動距離 10mm
接觸模式 接近式、軟接觸式、硬接觸式、真空接觸式（真空接觸力可調節）
接近調節 1μm步進可調節程序化控制系統
對準精度 1μm
顯示器 17″觸屏
氣動控制 基片、掩膜、接觸、接觸調節、卡盤鎖、N2、N2調節
分辨率 1μm（真空接觸下近紫外）
擺放 防震桌
選件 CCD BSA、DUV、紫外強度計