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快速退火爐，采用革新的加熱技術，可實現真正的基底溫度測量，不需要采用傳統快速 退火爐的溫度補償，溫度控制精確，溫度重復性高，客戶包括國際上許多半導體公司及科研團隊，是半導體制程退火工藝的理想選擇。

超高真空多腔室物理氣相沉系統由全球專業的沉積設備商制造,配置多種沉積方式(預留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.。

超高真空磁控濺射系統，襯底支架符合最大300mm直徑的晶片需求，并可對晶片加熱至850°C及加載RF偏壓。磁控濺射系統可按客戶需求增減其他窗口用于諸如殘余氣體分析（RGA）、反射高能電子衍射（RHEED)或橢偏儀（ellipsometry）。

納米顆粒和薄膜的模塊化PVD系統是一種多功能的 PVD 系統，能夠生成納米顆粒和薄膜，非常適合工業和學術研究。NL-FLEX 能夠容納任何類型的基材，包括卷對卷、非平面和粉末涂料。服務于廣泛的應用，包括催化、光子學、儲能、傳感器和生命科學。這種模塊化 PVD 沉積系統可以與分析工具集成，為您的研究需求提供定制的解決方案。

納米顆粒和薄膜UHV沉積系統，服務于廣泛的應用，包括催化、光子學、儲能、傳感器和生命科學。該UHV 沉積系統可以與分析工具集成，為您的研究需求提供定制的解決方案。

臺式納米顆粒沉積系統（納米團簇），專為共享研究或教學實驗室而設計，學生和研究人員可以在各種納米技術項目中并行使用，而不必擔心交叉污染。應用包括催化、光子學、儲能、傳感器和生命科學。

脈沖激光沉積系統，基板:采用適合于氧氣環境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達1200攝氏度，溫度差3%，加熱時基板可旋轉，工作環境最大壓力是300mtorr。

脈沖激光分子束外延系統主要配置：主腔室，樣品傳輸腔，1100度加熱系統，樣品旋轉，PLD靶材操控器及光路，K-cell熱蒸發源，電子束蒸發源，射頻RF離子源。