我們提供了一種基于使用高功率LED和高級均勻化光學元件的創新紫外線照明系統。該產品線適用于光刻膠曝光（UV-LED光刻和固化），適用于MEMS、微流體、光子學、半導體和光伏應用中使用的各種基板和光刻膠。我們的標準UV照明產品系列滿足了300毫米寬（11.8英寸）掩模和晶片的光刻需求。

可以根據您的具體要求設計定制解決方案（例如，改裝口罩對準器，為您未來的產品提供OEM）。有關UV-LED改裝和定制曝光系統的更多詳細信息，請參閱我們的解決方案>技術頁面。

UV-LED曝光系統：

為什么選擇LED技術？

直到最近，汞弧燈是唯1能夠提供適用于紫外光刻曝光的高強度光的光源。由于LED技術的進步，UV LED已成為危險和耗能汞燈的一種非常有吸引力的替代品。

除了生態和安全方面，與傳統汞燈相比，UV LED的技術優勢在光刻方面是眾多而重要的。UV LED的一個主要優點是它們在很長的壽命內以一致的發射運行。因此，不需要進行日常校準和維護。此外，通過更節能，LED減少了加熱，大大簡化了系統冷卻。

值得注意的是，可以組合在365nm、405nm和435nm（峰值波長）發射的LED來模擬汞弧燈的UV-A光譜（汞元素的i線、h線和g線特征峰）

UV-LED曝光系統的優勢

照明穩定，無需日常校準

瞬時開啟，僅在曝光時開啟，不需要機械快門

使用壽命長，意味著不再需要耗材

窄光譜：不會對基材產生不必要的加熱，工藝更可重復

低功耗

無維護成本